20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家
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crf等離子表面處理儀作為一種行之有效的官能團(tuán)引起手段已成功的用于CO2氧化CH4一步制取C2烴反應(yīng)，取得了比化學(xué)催化法更好的試驗(yàn)效果。但C2烴產(chǎn)物選擇性較低，反應(yīng)機(jī)理尚不清楚，因此有必要對(duì)等離子體作用下CO2氧化CH4一步制取C2烴反應(yīng)進(jìn)行深入研究。
采用發(fā)射光譜方法，在紫外-可見波段可有效地檢測(cè)到crf等離子表面處理儀中許多種類的激發(fā)態(tài)物種，不對(duì)等離子體反應(yīng)體系產(chǎn)生干擾，可實(shí)現(xiàn)原位分析。因而近年來(lái)，有關(guān)發(fā)射光譜原位診斷技術(shù)用于crf等離子表面處理儀的研究報(bào)道不斷增多，但主要集中于對(duì)等離子體條件下CH4-H2制金剛石薄膜沉積體系的研究。采用發(fā)射光譜法原位診斷技術(shù)分析crf等離子表面處理儀條件下CO2氧化CH反應(yīng)體系不同CO2加入量時(shí)CH4反應(yīng)活性物種。
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CRF plasma 等離子清洗機(jī)
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