誠峰等離子體發(fā)生器在oled面板生產(chǎn)過程中起著相當關(guān)鍵的功效：
       通常，用于去除有機污染的等離子氣體主要由氧氣.Ar等組成。其中，Ar等離子體發(fā)生器方法主要是表層物理濺射。Ar離子在電場獲得足夠的能量轟擊表層，去除表層分子和原子，從表層去除污染物，提升表層粘附功能，改變表層粗糖含量。基于Ar是稀有氣體，不與材質(zhì)表面反應(yīng)，可以處理有些易被氧化物質(zhì)的表層。但對表層也有很大的損傷和熱效應(yīng)。

       氧氣等離子和氫氣等離子具有活性化學(xué)特性，是等離子體發(fā)生器清洗中非常典型的化學(xué)反應(yīng)清洗。等離子體發(fā)生器處理能高效去除有機物，中性氧原子具有相當活性的化學(xué)特性，能迅速與有機污染反應(yīng)，產(chǎn)生揮發(fā)性氣體(CO.CO2和H2O脫離物體表層，但該方法不適合處理易被氧化材質(zhì)。氫氣等離子通過活性H原子的還原，可以比較容易地去除金屬表面的被氧化層，也可以與有機碳氧化合物反應(yīng)產(chǎn)生揮發(fā)性物質(zhì)，如CH4。化學(xué)清洗的優(yōu)點是速度快，選擇性好。
在包裝過程中，設(shè)備和材質(zhì)表層的各種污染會明顯影響包裝制造和產(chǎn)品品質(zhì)，常壓等離子清洗技術(shù)，不受真空泵條件的限定，容易去除生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的分子水平污染，明顯提升包裝的可靠性和商品合格率。它可以集成到自動生產(chǎn)線上，以清潔高一代和大型基板。
       在生產(chǎn)過程中，光刻技術(shù)占很大比例。為了更好地在基板上產(chǎn)生圖形化，須要運用很多的光刻膠。當光刻膠沉積在機器設(shè)備上時，不僅會影響設(shè)備的運行，而且會加速設(shè)備的老化，須要定期清洗。常規(guī)清洗須要拆卸設(shè)備，相當不方便。常壓等離子噴槍的等離子射流可以比較容易地處理有些難以到達的空隙。
       等離子體發(fā)生器在oled面板生產(chǎn)過程中起著相當關(guān)鍵的功效，但常規(guī)等離子體發(fā)生器受到真空泵條件和腔容量的限定，無法處理大型基板和不規(guī)則部件。常壓等離子清洗機突破了真空泵限定，具有廣泛的發(fā)展前途。